@Article{, title={Morphological and Optical Properties of Cuo/Sapphire Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition الخصائص الطوبوغرافية والبصرية لاغشية اوكسيد النحاس المرسبة على الالومينا الرقيقة المحضرة بالليزر النبضي}, author={Afnan k. Yousif and Ban A. Bader and Rana O. Mahd}, journal={Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا}, volume={32}, number={5 Part (B) Scientific}, pages={892-898}, year={2014}, abstract={This paper addresses the structure, morphological and optical properties of copper oxide (CuO) thin film deposited by pulsed laser deposition (PLD) method on Sapphire substrate of 150nm thickness. The film deposited at substrate temperature (400ºC). The atomic force microscopy (AFM), Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and UV-VIS transmission spectroscopy were employed to characterize the size, morphology, crystalline structure and optical properties of the prepared thin film. The surface properties were characterized using (AFM), indicate that the average grain size less than 100nm, the surface roughness (2.69nm) and the root mean square is (3.58nm). The FTIR spectra shown strong band at about 418 cm-1and 530 cm-1 related to CuO. From the UV-VIS transmission the energy band gap (1.7eV).

تم في هذا البحث، دراسة تأثير درجة حرارة القاعدة على الخصائص التركيبية والطوبوغرافية والبصرية لاغشية اوكسيد النحاس المحضرة بتقنية الترسيب بالليزر النبضي (PLD) على قواعد الالومينا بسمك غشاء 150 نانومتر. تم ترسيب الغشاء بدرجة حرارة (400ºC). استخدم مجهر القوة الذرية (AFM) ومطياف فورير للاشعة تحت الحمراء ومطياف النفاذية للاشعة المرئية – فوق البنفسجية (UV-VIS) للاغشية المحضرة لدراسة الخصائص التركيبية والطوبوغرافية والبصرية لها من خلال مجهر القوة الذرية وجد ان البناء متعدد التبلور وان معدل الحجم الحبيبي اقل من 100 نانومتر وكذلك خشونه السطح ( 2,69 نانومتر) ومعدل مربع الجذر هو (3,58 نانومتر). أظهرت اطياف FTIR حزمة قوية عند 418 cm-1 و 530 cm-1 العائدة لاغشية CuO. ومن قياس طيف الاشعه المرئية – وتحت النبفسجية تم حساب فجوة الطاقة من طيف الاشعة ووجد ان قيمتها تساوي ((1.7eV.} }