TY - JOUR ID - TI - Structural Properties of Nano (CdO) Semiconduction Thin Film Deposited by Spray Pyrolysis Technique النانوية شبه الموصلة المحضرة بتقنية ( CdO ) * الخصائص التركيبية لأغشية الرش الحراري الكيميائي AU - Nahida Bukheet Hasan ناهدة بخيت حسن PY - 2016 VL - 3 IS - 21 SP - 83 EP - 89 JO - Al-Qadisiyah Journal of Pure Science مجلة القادسية للعلوم الصرفة SN - 19972490 24113514 AB - In this paper CdO films of 160 nm thickness were deposited onto glass substrates byspray pyrolysis technique at 400 oC temperature. The structure of films where studied , X-raymeasurements showed that the polycrystalline film and have a grain size of 14.63 nm. As shownimages of atomic force microscope that the film surface roughness of 3.26 nm .The photo ofscanning electron microscope show that the film and free from cracks and holes have a superficialhomogeneity. The energy-dispersive X-ray analysis show that the film containing the pure andelemental cadmium and oxygen only signifying purity film prepared.

160 على قواعد من الزجاج nm في هذا البحث تم ترسيب أغشية اوكسيد الكادميوم النانوية بسمكباستخدام تقنية الرش الكيميائي عند درجة حرارة 400 درجة سيليزية . اختبرت الخصائص التركيبية للأغشية14.63 . كما بينت nm المحضرة حيث أظهرت قياسات الأشعة السينية إن الغشاء متعدد التبلور ويملك حجم حبيبي3.26 . وأظهرت صور المجهر nm صور المجهر الالكتروني الذري إن الأغشية ذات خشونة سطحيةالالكتروني الماسح إن الغشاء يملك تجانس سطحي عالي وخالي من التشققات والثقوب. وبين فحص التشتتبواسطة أشعة اكس إن الأغشية تحتوي على عنصري الكادميوم والأوكسجين فقط مما يدل على نقاوة الغشاءالمحضر. ER -