@Article{, title={Effect of sputtering power on optical Properties of RF sputtering deposited Ti6Al4V Thin Films تأثير القدرة المجهزة لمنظومة الترذيذ بالترددات الراديوية على الخصائص البصرية لأغشية Ti6Al4V الرقيقة}, author={Mohammed K. Khalaf محمد خماس خلف and Dawood Salman Ali داود سلمان علي}, journal={Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء}, volume={15}, number={33}, pages={71-77}, year={2017}, abstract={Ti6Al4V thin film was prepared on glass substrate by RF sputtering method. The effect of RF power on the optical properties of the thin films has been investigated using UV-visible Spectrophotometer. It's found that the absorbance and the extinction coefficient (k) for deposited thin films increase with increasing applied power, while another parameters such as dielectric constant and refractive index decrease with increasing RF power.

تم تحضير اغشية رقيقة من سبيكة (Ti6Al4V) على ارضيات زجاجية باستخدامتقنية الترذيذ بالترددات الراديوية.تم دراسة تأثير القدرة المجهزة على الخصائص البصرية للأغشية الرقيقة باستخدام تقنية امتصاص الأشعة المرئية فوق البنفسجية.وجد ان معاملي الامتصاص والخمود يزدادان بزيادة الفولتية المجهزة.بينما باقي المعاملات مثل ثابت العزل ومعامل الانكسار تقل بزيادة الفولتية المسلطة.} }