TY - JOUR ID - TI - Study The Surface Characterization of Anodic grow SiO2 nano Film on Si by using AFM AU - Assim A. Issa PY - 2018 VL - 14 IS - 4 SP - 511 EP - 532 JO - College Of Basic Education Researches Journal مجلة ابحاث كلية التربية الاساسية SN - 19927452 AB - In this work studied The surface characterization of SiO2 nano film in the thickness range (2.3- 11.5) nm by using atomic force microscopy . SiO2 nano film growth on Silicon (100) p-type substrates , by using the anodic oxidation technique using (%75H2O+%25 isopropanol ) solution containing 0.1N KNO3 as supporting electrolyte. The chemical analysis of the surface of SiO2 has been done by (EDAX) shows the presence of O and Si elements, The films thickness has been found that is increases as formation potential increases. The (AFM) is used to study the nanotopography of SiO2 film . However it has been found that all of the following characteristics ,the nanotopography of the SiO2 nano film , root mean square RMS surface roughness of the SiO2 nano film , grain area , grain volume and grain length increases with the increase of SiO2 nano thickness.

في هذا العمل تم دراسة خصائص السطح النانوي لغشاء SiO2 ذي سمك بحدود (2.3- 11.5) nm باستخدام المجهر القوة الذرية . تم أنماء غشاء نانوي من SiO2 على أرضية Si (100) نوع p-type وذلك باستخدام تقنية الأكسدة الانودية وباستعمال محلول (%75H2O+%25 isopropanol ) بوجود 0.1N KNO3 كاالكتروليت مساعد . ولوحظ من التحليل الكيميائي لسطح SiO2 باستخدام (EDAX) وجود عنصر الأوكسجين (O) وعنصر السليكون (Si). وكذلك لوحظ أن سمك الاوكسيد SiO2 يزداد بزيادة جهد الإنماء . تم استخدام تقنية AFM لدراسة طوبغرافية النانوية لغشاء SiO2 . لقد وجد أن كل من الخصائص التالية ، طوبغرافية النانوية لغشاءSiO2 النانوي ، معدل خشونة ، مساحة الحبيبة ، حجم الحبيبة وأخيرا طول الحبيبة تزداد مع زيادة سمك SiO2 النانوي . ER -