TY - JOUR ID - TI - Study of sputtering parameter in D.C. planar magnetron sputtering AU - Majid. H. Dwech AU - Sarmed. S. AL-Awadi AU - Qusay A. Abbes AU - Fadhil Yousif Hadi PY - 2008 VL - 6 IS - 4 SP - 286 EP - 293 JO - journal of kerbala university مجلة جامعة كربلاء SN - 18130410 AB - In this research used the D.C. planar magnetron sputtering and measurement the some parameter to magnetron sputtering to effect to deposition thin film; this parameters were the pressure, voltage the glow discharge, distance between the target and the substrate, and thickness for thin film. We found the best conditions in the pressure (300mtorr) and distance (4cm) to good thin film.

في هذا البحث استخدم الترذيذ المغناطيسي المستوي والمستمر وحساب بعض عوامل الترذيذ المغناطيسي المؤثرة على ترسيب الاغشية الرقيقة. وهذة العوامل هي ضغط الغاز، وفرق الجهد التوهج، والمسافة بين الهدف والارضية وسمك الغشاء الرقيق؛ ووجدنا ان الفضل الشروط كانت عند ضغط (300mtorr) ومسافة (4cm) لافضل غشاء رقيق. ER -