TY - JOUR ID - TI - Studying the Effect of Laser Field on the Chemisorption Process for the System H / W (111 ) دراسة تأثير مجال الليزر على عملية الالتصاق الكيميائي للنظام H / W ( 111 ) AU - J. M. Al- Mukh and S.K.Radhi PY - 2013 VL - 1 IS - المؤتمر العلمي الاول لكلية العلوم SP - 86 EP - 96 JO - journal of kerbala university مجلة جامعة كربلاء SN - 18130410 AB - In this paper , a study is presented for the effect of laser field on the chemisorption process for atom adsorbed on solid surface . The mathematical model is based on the Anderson model by using the mean field approximation (MFA) . The laser field characteristics ( the frequency and the field strength ) are incorporated in the treatment , since the frequency is added to the energy levels of the adsorbed atom and the effect of field strength is incorporated throughout the chemisorption functions. The model is applied to the system H / W (111), since the laser field characteristics effects are studied. The role of the AFM-parameter in the determination of weak and strong coupling types is investigated.

في هذا البحث قدمت دراسة لتأثير مجال الليزر على عملية الالتصاق الكيميائي لذرة ملتصقة على سطح صلب . استند الأنموذج الرياضي في وصف عملية الالتصاق الكيميائي على أنموذج أندرسون باستخدام تقريب معدل – مجال MFA ( Mean – Field Approximation ) . تم إدخال مميزات الليزر ( التردد وشدة المجال ) إلى المعالجة ،إذ تم إضافة التردد إلى موقع المستوي الذري للذرة الملتصقة كما أدخل تأثير شدة المجال من خلال دوال الالتصاق الكيميائي. طبق هذا الأنموذج على النظام H/W(111) إذ درس تأثير مميزات المجال في تحديد حالتي الاقتران القوي والضعيف ER -