research centers


Search results: Found 1

Listing 1 - 1 of 1
Sort by

Article
Reactive DC magnetron sputter deposition and structural properties of NiO thin films
الترسيب بالترذيذ التفاعلي لل DC ماكنترون والخواص التركيبية لاغشية اوكسيد النيكل

Authors: Ibrahim R. Agool --- Mohammed K. Khalaf --- Shaimaa H. Abd Muslim --- Riyadh N. Talaq
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2015 Volume: 33 Issue: 6 Part (B) Scientific Pages: 1082-1092
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

Nickel oxide (NiO) films were deposited by using a homemade DC reactive magnetron sputtering system at different working pressure in the range (0.05-0.14)mbar. The effect of working pressure on the structure, surface morphology, optical of NiO films was investigated. X-ray diffraction (XRD) results suggested that the deposited films were formed by nanoparticles with average particle size in the range of (8.145-29.195) nm. And the films are identified to be polycrystalline nature with a cubic structure along (111) and (101) orientation also Ni2O3 was found by XRD. The texture of the films was observed using SEM and AFM, it was observed that the grain size was increased with working pressure. The energy band gap was found to be in the range of (4.1 eV to 3.9 eV) When the film thickness varying from 73 nm to 146.9 nm.

تم ترسيب اغشية اوكسيد النيكل(NiO) بأستخدام منظومة بلازما الماكنترون للتيارات المستمرة المحلية الصنع وبطريقة الترذيذ التفاعلي وبضغوط عمل مختلفة ضمن المدى (0.05-0.14) ملي بار. وقد تم دراسة تأثير ضغط العمل على تركيب ومورفولوجية السطح والخواص البصرية لاغشية اوكسيد النيكل .واقد اظهرت نتائج حيود الاشعة السينية ان الاغشية المترسبة ذات تركيب نانوي وبمعدل حجم حبيبي بين (8.145-29.195) نانومتر.بالاضافة لكون الاغشية ذات طابع متعدد التبلور مع بنية مكعبة على طول (111) و(101) التوجه. وعلاوة على ذلك تم العثور على Ni2O3بواسطة حيود الاشعة السينية. كما تم دراسة تركيب الاغشية باستخدام SEM وAFM ، وقد لوحظ زيادة حجم الحبوب مع زيادة ضغط العمل.وقد وجد ان فجوة الطاقة في حدود (4.1 الكترون-فولت الى 3.9 الكترون-فولت) عندما يكون سمك الغشاء يتراوح بين 73 نانومتر إلى 146.9 نانومتر.

Listing 1 - 1 of 1
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (1)


Language

English (1)


Year
From To Submit

2015 (1)