research centers


Search results: Found 1

Listing 1 - 1 of 1
Sort by

Article
Study of sputtering parameter in D.C. planar magnetron sputtering

Authors: Majid. H. Dwech --- Sarmed. S. AL-Awadi --- Qusay A. Abbes --- Fadhil Yousif Hadi
Journal: journal of kerbala university مجلة جامعة كربلاء ISSN: 18130410 Year: 2008 Volume: 6 Issue: 4 Pages: 286-293
Publisher: Kerbala University جامعة كربلاء

Loading...
Loading...
Abstract

In this research used the D.C. planar magnetron sputtering and measurement the some parameter to magnetron sputtering to effect to deposition thin film; this parameters were the pressure, voltage the glow discharge, distance between the target and the substrate, and thickness for thin film. We found the best conditions in the pressure (300mtorr) and distance (4cm) to good thin film.

في هذا البحث استخدم الترذيذ المغناطيسي المستوي والمستمر وحساب بعض عوامل الترذيذ المغناطيسي المؤثرة على ترسيب الاغشية الرقيقة. وهذة العوامل هي ضغط الغاز، وفرق الجهد التوهج، والمسافة بين الهدف والارضية وسمك الغشاء الرقيق؛ ووجدنا ان الفضل الشروط كانت عند ضغط (300mtorr) ومسافة (4cm) لافضل غشاء رقيق.

Keywords

Listing 1 - 1 of 1
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (1)


Language

English (1)


Year
From To Submit

2008 (1)