research centers


Search results: Found 1

Listing 1 - 1 of 1
Sort by

Article
Characterization of the Copper Oxide Thin Films Deposited by Dc Sputtering Technique
دراسة خصائص اغشية اوكسيد النحاس المحضرة بطريقة الترذيذ للتيار المستمر

Authors: Mohammed K. Khalaf --- Saba N. Said --- Ameen J. Abbas
Journal: Engineering and Technology Journal مجلة الهندسة والتكنولوجيا ISSN: 16816900 24120758 Year: 2014 Volume: 32 Issue: 4 Part (B) Scientific Pages: 770-776
Publisher: University of Technology الجامعة التكنولوجية

Loading...
Loading...
Abstract

Nanocrystalline Copper Oxide films were deposited on glass substrates by plasma dc sputtering. The effected of discharge current on the structural and optical properties of sputtered films were studied .X-ray diffraction peak of Cu2O (111) and Cu4O3 (112) direction was observed at discharge current of (15-30) mA when annealed at 500 0C for 2 h. The optical energy gap for the prepared films is estimated to be in (2.05- 2.3) eV range. It was found that the effect of preparation conditions on thin films thickness strongly depends on the discharge current of argon plasma.

تم في هذا البحث تحضيرأغشية نانويه من مركبات اوكسيد النحاس رسبت على قواعد زجاجية باستخدام الترذيذ بالبلازما . تم مناقشة تاثير تيار التفريغ على الخصائص التركيبية والبصرية وباستخدام حيود الأشعة السينية والتي أوضحت وجود التركيب متعدد التبلور. ظهرت في الأغشية المحضرة بتيار تفريغ يتراوح بمدى 15-30) mA) والملدنة بدرجة حرارة 500 0C لمدة ساعتين وجود مستويات (112),(111) للاطوار(Cu2O,Cu4O3). كما وجد إن فجوة الطاقة البصرية للأغشية المحضرة تتراوح من 2.05-2.3) eV). كما وجد إن سمك الأغشية المحضرة يتأثر مع تيار التفريغ لبلازما الاركون.

Keywords

Listing 1 - 1 of 1
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (1)


Language

English (1)


Year
From To Submit

2014 (1)