research centers


Search results: Found 4

Listing 1 - 4 of 4
Sort by

Article
Control the deposition uniformity using ring cathode by DC dischargetechnique
التحكم بانتظام الترسيب باستخدام كاثود حلقيفي تقنية التفريغ الكهربائي للتيار المستمر

Authors: Kadhim A. Aadim كاظم عبدالواحد عادم --- Muhammad O. Salman محمد عودة سلمان
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2017 Volume: 15 Issue: 32 Pages: 57-67
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

Simulation ofdirect current (DC) discharge plasma using COMSOL Multiphysicssoftware were used to study the uniformity of deposition on anode from DC discharge sputteringusing ring and disc cathodes, then applied it experimentally to make comparison between film thickness distribution with simulation results. Both simulation and experimental results shows that the deposition using copper ring cathode is more uniformity than disc cathode.

تم استخدام برنامج COMSOL Multiphysics لعمل محاكاة لبلازما التفريغ الكهربائي للتيار المستمر لدراسة انتظام الترسيب على الأنود الناتج من عملية الترذيذ بواسطة التفريغ الكهربائي عن طريق استخدام كاثود حلقي واخر دائري, ثم تطبيق ذلك عمليا لعمل مقارنة بين توزيع سمك الغشاء مع نتائج المحاكاة. بينت نتائج المحاكاة والنتائج العملية أن الترسيب باستخدام كاثود حلقي من النحاس أكثر انتظاما من الكاثود الدائري.


Article
Effect of Electrodes Separation in DC Plasma Sputtering on Morphology of Silver Coated Samples

Authors: Khalid A. Yahya --- Ban F. Rasheed
Journal: Al-Nahrain Journal of Science مجلة النهرين للعلوم ISSN: (print)26635453,(online)26635461 Year: 2016 Volume: 19 Issue: 4 Pages: 78-85
Publisher: Al-Nahrain University جامعة النهرين

Loading...
Loading...
Abstract

In this work, the effect of the electrodes separation on plasma parameters and morphology properties for coated glass samples by silver metal using low voltage DC discharge plasma sputtering source. At fixed argon gas pressure 0.2 mbar and discharge currents Id(20,30,40,50 and 60)mA, for different electrodes separation d (3,4,4.5,5,6)cm was studied. The plasma sputtering source consists of a cylindrical chamber including two circular electrodes made from stainless steel. The cathode electrode is carrying the silver metal as a target and permanent magnet, while a glass sample coater is placed on the anode electrode. The plasma parameters: temperature of electron(Te) and ion density(ni) were determined by using cylindrical single Langmuir probe. Also, the surface morphology for the coater samples were studied by atomic force microscope (AFM). The results of this work shown that a linear increases in ions density and an exponential decreasing in electron temperature for different electrodes separation. Furthermore, the relationship between the average grain diameter and average grain height as a function of electrodes separation are nonlinear. The minimum average grain diameter is (90 nm) at d=4 cm for Id=40 mA and minimum average grain height is (5.5 nm) at the same electrodes separation and discharge current. When the temperature of electron increased, the values of average grain diameter increased while the values of average grain height decreased.

تم في هذا العمل, د ا رسة تأثير المسافة بين القطبين علىمعلمات البلازما وخصائص اشكال سطح النموذج المطليبالفضة باستعمال مصدر للترذيذ البلازمي للتفريغ عندالفولتيات الواطئة المستمرة في الترذيذ البلازمي بضغط غازالاركون الثابت ) 0.2 ( ملي بار لتيا ا رت التفريغ( 20,30,40,50,60 ( ملي امبير لعدة مسافات بين القطبين( 3,4,4.5,5,6 ( سم.يتكون مصدر الترذيذ البلازمي من حجرة اسطوانية تحتويعلى قطبين دائرين مصنوعين من مادة الستنلس ستيل. قطبالكاثود يحمل مادة الهدف والمغناطيس الثابت بينما يوضعالنموذج الزجاجي لطلائه على قطب الانود.عوامل البلازما, درجة ح ا ررة الالكترون وكثافة الايونات تمتحديد باستعمال مجس لانكمور الاسطواني المنفرد وايضادرست خصائص اشكال سطوح النماذج المطلية بواسطةمجهر القوة الذرية.أوضحت نتائج هذا البحث زيادة خطية في كثافة الايوناتونقصان بدالة أسية في درجة ح ا ررة الالكترون بزيادة المسافةبين القطبين. كما ان العلاقة بين معدل قطر الحبيبةوارتفاعها كدالة غير خطية للمسافة بين القطبين. اقل معدلقطر الحبيبة وارتفاعها هو ) 90 ( نانومتر عند المسافة (4) سموبتيار تفريغ ) 40 ( ملي امبير, واقل معدل ارتفاع الحبيبة هو( (5.5 نانومتر بنفس المسافة بين القطبين وتيار التفريغ.عند زيادة درجة ح ا ررة الالكترون فان قيم معدل قطرالحبيبة يزداد ويقل ارتفاعها.


Article
The influence of magnetic field and cathode dimensions on plasma characteristics in hollow cathode system
تأثير المجال المغناطيسي وأبعاد الكاثود على خصائص البلازما في منظومة الكاثود المجوف

Authors: Baraa Afif براء عفيف مسلم --- Qusay Adnan Abbas قصي عدنان عباس
Journal: Iraqi Journal of Physics المجلة العراقية للفيزياء ISSN: 20704003 Year: 2018 Volume: 16 Issue: 38 Pages: 26-34
Publisher: Baghdad University جامعة بغداد

Loading...
Loading...
Abstract

Experimental study on the effect of cylindrical hollow cathode, working pressure and magnetic field on spatial glow distribution and the characteristics of plasma produced by dc discharge in Argon gas, were investigated by image analyses for the plume within the plasma. It was found that the emission intensity appears as a periodic structure with many peaks appeared between the electrodes. Increasing the pressure leads to increase the number of intensity peaks finally converted to continuous form at high pressure, especially with applied of magnetic field, i.e. the plasma is more stable with the presence of magnetic field. The emission intensity study of plasma showed that the intensity has a maximum value at 1.07 mbar pressure and decrease with more pressure.

أجريت دراسة تجريبية حول تأثير الكاثود الأسطواني المجوف، ضغط العمل ووجود المجال المغناطيسي، على التوزيع المكاني للتوهج وخصائص التذبذب في البلازما الناتجة عن التفريغ الكهربائي في غاز الأرجون، من خلال تحليل الصور للتوهج داخل البلازما. وقد تبين أن كثافة الانبعاثات تظهر كشكل دوري مع العديد من القمم ظهرت بين القطبين. أدى زيادة الضغط التشغيلي إلى زيادة عدد قمم الشدة ثم تحولها أخيرا إلى شكل مستمر عند الضغط العالي، وخاصة عند استخدام المجال المغناطيسي، أي ان البلازما كانت أكثر استقرارا مع وجود المجال المغناطيسي. وأظهرت دراسة كثافة الانبعاث للبلازما أن لها قيم قصوى عند ضغط 1.07 mbar وتنخفض مع مزيد من الضغط.


Article
Electrical Discharge Characterization of Planar Sputtering System for Gold Target
توصيف التفريغ الكهربائي لمنظومة الترذيذ باستخدام هدف من الذهب

Loading...
Loading...
Abstract

Before using any sputtering system, the extent of the operating pressures and voltages must be known by studying the breakdown curve with the product of the working pressure times the inter electrode distance. In this paper, argon breakdown by dc electrical potentials was experimentally studied. Paschen curves for argon gas were obtained by measuring the breakdown voltage of argon using gold target. These curves display that the breakdown voltage in Ar gas between two planer electrodes comparable with (P. d). The I-V characteristics of the plasma discharge point to that the discharge is working in the abnormal glow region.

قبل استخدام أي منظومة ترذيذ يجب معرفة مدى الضغوط والفولتية التي تعمل فيها من خلال دراسة منحنى فولتية الانهيار مع حاصل ضرب الضغط في المسافة بين القطبين.تم في هذا البحث عمل دراسة عملية لجهد الانهيار في غاز الأركون باستخدام مجال كهربائي مستمر. تم الحصول على منحنيات باشن لغاز الأركون عن طريق قياس جهد انهيار الغاز باستخدام هدف من الذهب. بينت هذه المنحنيات أن جهد الانهيار لغاز الأركون ان التفريغ الكهربائي بين القطبين المستويين يكون كدالة لـ (P.d)(حاصل ضرب الضغط داخل الحجرة في المسافة بين الاقطاب). بينت خصائص التيار -فولتية أن التفريغ يعمل في منطقة التوهج فوق الطبيعي

Listing 1 - 4 of 4
Sort by
Narrow your search

Resource type

article (4)


Language

English (4)


Year
From To Submit

2019 (1)

2018 (1)

2017 (1)

2016 (1)