Abstract | Keywords | Fulltext | Export | TOC

SF6 plasma properties has studied SF6 gas was used as an etching gas .A home built lab. Scale plasma etching system was employed to generate DC plasma. A current density as a function of etch rate vs. voltage at constant pressure and current density as a function of etch rate vs. pressure at constant voltage without wafer were obtained the topography of etchant Silicon - wafer i.e., anisotropy under cutting and dimension were tested .The results were : increasing the voltage and pressure led to increase the current density .

استخدم غاز SF6 كغاز حفر في منظومة محلية الصنع ولدراسة خصائص بلازما SF6 المتولدة قمنا بقياس الكثافة التيارية كدالة للحفر مع الفولتية بثبوت الضغط والضغط بثبوت الفولتية على التوالي، لاحظ الباحث حصول زيادة في الكثافة التيارية عند زيادة الضغط والفولتية . كذلك اخذ صورة للعينة المحفورة لمعرفة نوع الحفر الحاصل وخصائصه.

gas SF6 --- غاز SF6